超高真空光學尺

對許多工業製程而言，如果存在大量空氣或其他氣體，可能會對成品造成不良影響。因此這類製程必須處於排空環境，達到極度嚴苛的剩餘壓力等級。如果這類製程涉及運動控制，就必須使用超高真空 (UHV) 光學尺系統。

維持潔淨的高度真空環境並盡量減少放氣

Renishaw UHV 相容光學尺系列的所有產品，都適用於各種科學、半導體與其他真空壓力達 10^-10Torr 的先進工業應用。

操作的基本原理與我們的同級標準大氣產品相同，但 UHV 版本的設計可消除不通風的空間，因此可特別以無塵、真空相容材料與黏著劑製造而成。用於 UHV 環境的產品，是由獨立專業測試機構檢驗其適合性，其中包括殘留氣體分析 (RGA) 頻譜測試（可依要求提供）。

系列產品包含增量式、絕對式及開放式光學尺。

市面上有許多的高品質光學尺產品，但是與真空應用相容的產品並不多。Renishaw TONiC UHV 光學尺提供優異的效能及可靠性，是我們最理想的選擇。

南韓 VAD Instruments

TONiC UHV 光學尺是特別改造版的 TONiC 光學尺系列產品。其中提供：

相容於各種光學尺：
- 線性：RTLC 不鏽鋼光學尺、RKLC 精細型不鏽鋼光學尺、RELM ZeroMet 光學尺、RSLM 不鏽鋼光學尺。
- 旋轉（角度）：RESM 不鏽鋼環、REXM 超高精度不鏽鋼環。

RESOLUTE UHV 光學尺是特別改造版的 RESOLUTE 光學尺系列產品。其中提供：

BiSS® C 及 Panasonic 序列介面。
相容於各種光學尺：
- 線性：RTLA 不鏽鋼光學尺、RELA ZeroMet 光學尺、RSLA 不鏽鋼光學尺。
- 旋轉（角度）：RESA 不鏽鋼環、REXA 超高精度不鏽鋼環。

請參閱 RESOLUTE 絕對式 UHV 光學尺簡介

請與 Renishaw 聯絡以取得更多資訊及與專家交流。