UHV-kompatible optische Messsysteme
Für reine Hochvakuum-Umgebungen und minimale Ausgasung
Alle UHV-kompatiblen Messsysteme von Renishaw wurden zur Verwendung mit verschiedenen wissenschaftlichen, Halbleiter- und anderen fortschrittlichen Industrieanwendungen für Vakuum bis 10 -10 Torr konzipiert.
Die grundlegenden Funktionsweisen sind dieselben wie die für die entsprechenden Normalklima-Produkte; allerdings wurden die UHV-Ausführungen aus speziellen sauberen, vakuumtauglichen Materialien und Klebstoffen so konzipiert, dass geschlossene Hohlräume vermieden wurden. Eine Tauglichkeitsprüfung der Produkte in UHV-Umgebungen wird von einer unabhängigen Prüfstelle, einschließlich eines Restgasanalysen-Spektrumtests, durchgeführt (auf Anfrage erhältlich).
Die Produktreihe umfasst inkrementelle Messsysteme sowie optische Absolut-Messsysteme in offener Ausführung.
Es werden viele hochwertige Messsystemprodukte angeboten, aber nur wenige sind auch mit Vakuumanwendungen kompatibel. Das TONiC UHV-Messsystem von Renishaw bietet hervorragende Ergebnisse und Zuverlässigkeit und ist unsere beste Wahl.
VAD Instruments, Südkorea
Inkrementelle UHV-Messsysteme
TONiC™ UHV-kompatible offene Messsysteme
Das TONiC UHV-Messsystem ist eine speziell modifizierte Variante der TONiC Messsystembaureihe. Es bietet:
- Kompatibilität mit einer Vielzahl von Maßverkörperungen:
- Linear: RTLC Edelstahlmaßband, RKLC schmales Edelstahlmaßband, RELM ZeroMet Maßstab, RSLM Edelstahlmaßstab
- Rotativ (Winkelmessung): RESM Edelstahlmessring, REXM hochgenauer Edelstahlmessring
Absolute UHV-Messsysteme
RESOLUTE™ UHV-Messsysteme in offener Ausführung
Das RESOLUTE UHV-Messsystem ist eine speziell modifizierte Variante der RESOLUTE Messsystembaureihe. Es bietet:
- Serielle BiSS® C und Panasonic Schnittstellen
- Kompatibilität mit einer Vielzahl von Maßverkörperungen:
- Linear: RTLA Edelstahlmaßband, RELA ZeroMet Maßstab, RSLA Edelstahlmaßstab
- Rotativ (Winkelmessung): RESA Edelstahlmessring, REXA hochgenauer Edelstahlmessring
Schauen Sie sich unsere Einführung zu optischen RESOLUTE UHV Absolut-Messsystemen an
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