雷射編碼器介面
用於高解析度應用的彈性雷射介面。
RPI30 平行介面
RPI30 接受差動類比 1 Vpp sine/cosine 訊號,以 4096 插入,並以平行格式輸出最多 36 位元的可用位置資料。與雙通平面鏡干涉儀系統 (PMI)(名義上的正弦基本週期為 158 nm)搭配使用時,能在速度高達 2 m/sec 的情況下,產生 38.6 皮米的最低有效位元 (LSB)。
啟用利薩如主動修正可補償雷射編碼器的直流電偏移和交流電誤差,將低速時的細分誤差 (SDE) 縮小至 ±0.1 nm。
![RPI30 快速平行介面](/media/img/gen/05b9b954618c446492a8cb4a459d9cf3.jpg)
特性和優點
- 高精度 - 低 SDE (± 0.1 nm)。
- SDE 主動修正 - 減少位置量測誤差。
- 位置資料 - 透過平行匯流排將來自 RLE 的 1 Vpp 類比正交轉換至位置讀數。
- 主動更新 - 直流電偏移和交流電誤差。
- 方便存取 - 透過連線診斷問題,有利於遠端下載和分析。
- 多軸解決方案 - 經由與 LVTTL (3.0 V) 相容的匯流排提供二軸輸出位置和狀態。
- 通訊協定 - 以 36 位元(二補數字詞)和所選擇的 LSB 呈現位置資料。
- 即時狀態 - 包括訊號強度和錯誤旗標。
規格
平面鏡系統 | 復歸反射器系統 | |
解析度 | 38.6、77.2、154.4 或 308.8 pm | 77.2、154.4、308.8 或 617.6 pm |
最高速度 | 2 m/s | 4 m/s |
輸出信號 | 36 位元(二補數) | 36 位元(二補數) |
SDE*(排除 RLE 且不啟用修正) | 平面鏡系統 - PMI | 復歸反射器 - RRI |
速度 < 50 mm/s (PMI) 速度 < 100 mm/s (RRI) 訊號強度 > 25% | < ±0.5 nm | < ±1.0 nm |
速度 > 50 mm/s 和 < 2 m/s 速度 > 100 mm/s 和 < 4 m/s | < ±2.0 nm | < ±4.0 nm |
SDE*(包含 RLE 並啟用修正) | 平面鏡系統 - PMI | 復歸反射器 - RRI |
速度 < 50 mm/s (PMI) 速度 < 100 mm/s (RRI) 訊號強度 > 50% | < ±0.1 nm | < ±0.2 nm |
RPI20 平行介面
RPI20 轉換來自 RLE 雷射干涉編碼器系統的 1 Vpp 類比正交訊號,以平行字串格式提供超高解析度(4096x 細分)位置回饋。
![RPI20 平行介面搭配 RoHS](/media/img/gen/acd074fbc5254e0c9240bf3475bc32ea.jpg)
特性和優點
- 高解析度-類比正交信號最高 4096x 細分。
- 多軸解決方案-以一條匯流排提供七軸能力。
- 高速通訊-輸入頻寬 <6.5 MHz 與 36 位元平行格式輸出。
- 高精度-低 SDE (± 0.5 nm)。
選配雙軸 VME 主機板可讓 RPI20 用於 VME 系統架構。
規格
解析度 | 38.6 皮米(平面鏡系統) 77.2 皮米(反射鏡系統) |
最高速度 | 1 m/s(平面鏡系統) 2 m/s(反射鏡系統) |
輸出信號 | 36 位元平行字串 |
PMI | PMI | RRI | RRI | |
速度 | <50 mm/s | <1 m/s | <100 mm/s | <2 m/s |
SDE* | 0.5 nm | 2 nm | 1 nm | 4 nm |
RLI20-P 雷射介面-Panasonic
RLI20-P 將 Renishaw 雷射編碼器系統介接 Panasonic 控制器 (MINAS A5-SERIES)。使用來自雷射編碼器輸出的 1 Vpp 類比正交訊號,在以 RS485 格式作為增量位置讀數輸出之前,通過高速細分器。
![RLI20-P 雷射介面-Panasonic](/media/img/gen/e3ddcd0d39ab424b9c6829f6c6238b31.jpg)
特性和優點
- Panasonic 功能-直接相容於 Panasonic 控制器 (MINAS A5-SERIES)。
- 高速通訊-高速內部位置更新率 (100 MHz)。
- 高精度-低 SDE (± 0.5 nm)。
規格
解析度 | 1nm(平面鏡系統) 2 nm(反射鏡系統) |
最高速度 | 1 m/s(平面鏡系統) 2 m/s(反射鏡系統) |
輸出信號 | 2.5 Mbps RS485,相容於 Panasonic MINAS A5 系列控制器 |
PMI | PMI | RRI | RRI | |
速度 | <50 mm/s | <1 m/s | <100 mm/s | <2 m/s |
SDE* | 0.5 nm | 2 nm | 1 nm | 4 nm |
RSU10 USB 介面
RSU10 USB 介面接受 RLE 系統的 1 Vpp 正弦/餘弦訊號、細分倍數 x16,384,以及透過 USB 埠提供位置讀數。
使用 RSU10 可讓量測資料相容於 Renishaw 著名的校正軟體套件(LaserXL 與 QuickViewXL)。此為需要檢視與分析即時動態量測資料的使用者,提供理想的解決方案。
各 RSU10 均隨附最大更新率達 20 Hz 的軟體開發套件 (SDK),以便開發特定功能的軟體。
![RSU10 USB 介面](/media/img/gen/25b5586b3b824d4b917e2162ddc296ae.jpg)
特性和優點
- 高解析度-x16,384 細分,在速度 1 m/s 時提供 9.64 皮米的訊號解析度。
- 彈性的軟體 -相容於校正套件,並提供 Renishaw 軟體開發套件的彈性。
- 自動化資料擷取-TPin 觸發輸入設施可在接收外部產生的訊號後,開始進行資料擷取。
規格
解析度 | 9.64 皮米(平面鏡系統) 19.28 皮米(反射鏡系統) |
最高速度 | 1 m/s(平面鏡系統) 2 m/s(反射鏡系統) |
最高更新率 | 50 kHz(使用 SDK 時最大 20 Hz) |
PMI | PMI | RRI | RRI | |
速度 | <50 mm/s | <1 m/s | <100 mm/s | <2 m/s |
SDE* | 3 nm | 4 nm | 6 nm | 8 nm |