雷射編碼器介面
用於高解析度應用的彈性雷射介面。
RPI30 平行介面
RPI30 接受差動類比 1 Vpp sine/cosine 訊號，以 4096 插入，並以平行格式輸出最多 36 位元的可用位置資料。與雙通平面鏡干涉儀系統 (PMI)（名義上的正弦基本週期為 158 nm）搭配使用時，能在速度高達 2 m/sec 的情況下，產生 38.6 皮米的最低有效位元 (LSB)。
啟用利薩如主動修正可補償雷射編碼器的直流電偏移和交流電誤差，將低速時的細分誤差 (SDE) 縮小至 ±0.1 nm。
特性和優點
- 高精度 - 低 SDE (± 0.1 nm)。
- SDE 主動修正 - 減少位置量測誤差。
- 位置資料 - 透過平行匯流排將來自 RLE 的 1 Vpp 類比正交轉換至位置讀數。
- 主動更新 - 直流電偏移和交流電誤差。
- 方便存取 - 透過連線診斷問題，有利於遠端下載和分析。
- 多軸解決方案 - 經由與 LVTTL (3.0 V) 相容的匯流排提供二軸輸出位置和狀態。
- 通訊協定 - 以 36 位元（二補數字詞）和所選擇的 LSB 呈現位置資料。
- 即時狀態 - 包括訊號強度和錯誤旗標。
規格
| 平面鏡系統 | 復歸反射器系統 | |
| 解析度 | 38.6、77.2、154.4 或 308.8 pm | 77.2、154.4、308.8 或 617.6 pm |
| 最高速度 | 2 m/s | 4 m/s |
| 輸出信號 | 36 位元（二補數） | 36 位元（二補數） |
| SDE*（排除 RLE 且不啟用修正） | 平面鏡系統 - PMI | 復歸反射器 - RRI |
| 速度 < 50 mm/s (PMI) 速度 < 100 mm/s (RRI) 訊號強度 > 25% | < ±0.5 nm | < ±1.0 nm |
| 速度 > 50 mm/s 和 < 2 m/s 速度 > 100 mm/s 和 < 4 m/s | < ±2.0 nm | < ±4.0 nm |
| SDE*（包含 RLE 並啟用修正） | 平面鏡系統 - PMI | 復歸反射器 - RRI |
| 速度 < 50 mm/s (PMI) 速度 < 100 mm/s (RRI) 訊號強度 > 50% | < ±0.1 nm | < ±0.2 nm |
RLI20-P 雷射介面－Panasonic
RLI20-P 將 Renishaw 雷射編碼器系統介接 Panasonic 控制器 (MINAS A5-SERIES)。使用來自雷射編碼器輸出的 1 Vpp 類比正交訊號，在以 RS485 格式作為增量位置讀數輸出之前，通過高速細分器。
特性和優點
- Panasonic 功能－直接相容於 Panasonic 控制器 (MINAS A5-SERIES)。
- 高速通訊－高速內部位置更新率 (100 MHz)。
- 高精度－低 SDE (± 0.5 nm)。
規格
| 解析度 | 1nm（平面鏡系統）2 nm（反射鏡系統） |
| 最高速度 | 1 m/s（平面鏡系統） 2 m/s（反射鏡系統） |
| 輸出信號 | 2.5 Mbps RS485，相容於 Panasonic MINAS A5 系列控制器 |
PMI | PMI | RRI | RRI | |
| 速度 | <50 mm/s | <1 m/s | <100 mm/s | <2 m/s |
| SDE* | 0.5 nm | 2 nm | 1 nm | 4 nm |
RSU10 USB 介面
RSU10 USB 介面接受 RLE 系統的 1 Vpp 正弦／餘弦訊號、細分倍數 x16,384，以及透過 USB 埠提供位置讀數。
使用 RSU10 可讓量測資料相容於 Renishaw 著名的校正軟體套件（LaserXL 與 QuickViewXL）。此為需要檢視與分析即時動態量測資料的使用者，提供理想的解決方案。
各 RSU10 均隨附最大更新率達 20 Hz 的軟體開發套件 (SDK)，以便開發特定功能的軟體。
特性和優點
- 高解析度－x16,384 細分，在速度 1 m/s 時提供 9.64 皮米的訊號解析度。
- 彈性的軟體 －相容於校正套件，並提供 Renishaw 軟體開發套件的彈性。
- 自動化資料擷取－TPin 觸發輸入設施可在接收外部產生的訊號後，開始進行資料擷取。
規格
| 解析度 | 9.64 皮米（平面鏡系統） 19.28 皮米（反射鏡系統） |
| 最高速度 | 1 m/s（平面鏡系統） 2 m/s（反射鏡系統） |
| 最高更新率 | 50 kHz（使用 SDK 時最大 20 Hz） |
PMI | PMI | RRI | RRI | |
| 速度 | <50 mm/s | <1 m/s | <100 mm/s | <2 m/s |
| SDE* | 3 nm | 4 nm | 6 nm | 8 nm |
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