Aplicación: El interferómetro RLE20 aumenta el rendimiento de la última herramienta e-beam de Raith (pdf)
La herramienta de litografía e-beam VB300 de Raith (anteriormente Vistec Lithography y Leica Microsystems) es un desarrollo de la exitosa serie VB6 introducida en 1993. Al diseñar la nueva herramienta, Raith descubrió que al reducir los errores de posición provocados por interferencias se mejoraría considerablemente el rendimiento de la herramienta. Combinando la rigidez mecánica mejoraday la integración del sistema de encóder basado en el interferómetro diferencial RLE20 de Renishaw, estos errores pueden reducirse hasta <3 nm.
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